Performance evaluation of free-silicon organic-inorganic hybrid (SiO2-TiO2-PVP) thin films as a gate dielectric

نویسندگانHamed Najafi-Ashtiani
نشریهApplied Surface Science
شماره صفحات373-378
شماره مجلد455
نوع مقالهFull Paper
تاریخ انتشار2018
رتبه نشریهISI
نوع نشریهچاپی
کشور محل چاپهلند

چکیده مقاله

لینک ثابت مقاله